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真空鍍膜作業(yè)原理是膜體在高溫下蒸騰落在工件外表結(jié)晶。由于空氣對蒸騰的膜體分子會發(fā)生阻力形成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以有必要在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密亮光，果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤聯(lián)系力也很差。前期真空鍍膜是依托蒸騰體天然散射，聯(lián)系差工效低光澤差。如今加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸騰分子在電場的效果下加快炮擊靶材，濺射出很多的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，處理了曩昔天然蒸騰無法加工的膜體種類，如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設(shè)備必需加冷卻水，緣由是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體活動時有一個集膚效應(yīng)，電荷集聚集在電導(dǎo)有外表積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要緣由磁控濺射能夠被以為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基分離力好。

從更深層次研討電子在非平均電磁場中的運動規(guī)律,討論了磁控濺射的更普通原理以及磁場的橫向不平均性及對稱性是磁約束的實質(zhì)緣由。磁控濺射能夠被以為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基分離力好、安裝性能穩(wěn)定。

鹽水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能供給恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其作業(yè)原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水，經(jīng)過制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度增加再回流到水箱，到達(dá)冷卻的效果。冷卻水溫可根據(jù)請求自動調(diào)理，長期使用可節(jié)約用水。

鹽水機(jī)能操控真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配鹽水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)到達(dá)高精度、高效率操控溫度的意圖，由于天然水和水塔散熱都不可避免地遭到天然氣溫的影響，并且此方法操控是極不安穩(wěn)的。

鹽水機(jī)具有完整獨立的制冷系統(tǒng)，絕不會受氣溫及環(huán)境的影響，水溫在5℃～30℃范圍內(nèi)調(diào)理控制，因此能夠到達(dá)高精度、高效率控制溫度的目的，鹽水機(jī)設(shè)有獨立的水循環(huán)系統(tǒng)。